HORIBA堀場(chǎng)PH計(jì)在半導(dǎo)體制造設(shè)備中主要應(yīng)用于純水及廢水處理環(huán)節(jié)的pH監(jiān)測(cè)與控制，通過(guò)高精度測(cè)量與穩(wěn)定性能保障工藝水質(zhì)符合生產(chǎn)要求，同時(shí)其模塊化設(shè)計(jì)和耐用性可適應(yīng)半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)設(shè)備可靠性和環(huán)境適應(yīng)性的嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)。以下是具體應(yīng)用場(chǎng)景及優(yōu)勢(shì)分析：

一、核心應(yīng)用場(chǎng)景

1、純水制備與循環(huán)系統(tǒng)
半導(dǎo)體制造需使用超純水（電阻率≥18 MΩ·cm），水中pH值直接影響離子交換樹(shù)脂的再生效率和反滲透膜的壽命。HORIBA PH計(jì)（如HP-480型）可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)純水pH，防止因酸堿度異常導(dǎo)致設(shè)備腐蝕或產(chǎn)品污半導(dǎo)體制造設(shè)備染。

2、廢水處理與排放控制

半導(dǎo)體廢水含氟化物、重金屬及有機(jī)溶劑，需通過(guò)中和反應(yīng)調(diào)節(jié)pH至合規(guī)范圍（通常6-9）后再排放。HORIBA PH計(jì)可集成于廢水處理系統(tǒng)，通過(guò)自動(dòng)加藥控制實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)中和，避免因pH波動(dòng)導(dǎo)致處理不干凈或二次污染。

3、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝
CMP漿料需嚴(yán)格控pH以維持拋光液穩(wěn)定性。HORIBA筆式PH計(jì)（如PH-11/22型）可快速檢測(cè)漿料pH，確保拋光速率均勻性和晶圓表面平整度。

二、技術(shù)優(yōu)勢(shì)與行業(yè)適配性

1、高精度與穩(wěn)定性：量程覆蓋0-14pH，分辨率達(dá)0.01 pH，滿足半導(dǎo)體工藝對(duì)微量雜質(zhì)敏感的需求。

2、溫度補(bǔ)償功能：支持500Ω、6.8kΩ等多類型補(bǔ)償元件，可消除溫度對(duì)測(cè)量結(jié)果的干擾（如純水系統(tǒng)溫度波動(dòng)±1℃時(shí)，pH測(cè)量誤差小于等于0.02）。

3、抗干擾與耐用性：

● 無(wú)鉛玻璃電極：采用環(huán)保材料，減少重金屬析出風(fēng)險(xiǎn)，符合半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)設(shè)備清潔度的要求。

● IP65防護(hù)等級(jí)（如HP-480型面板安裝設(shè)計(jì)）：防塵防水，適應(yīng)潔凈室環(huán)境。

4、模塊化與易維護(hù)性

● 多電極兼容性：支持平面電極、針式電極等不同類型，可匹配半導(dǎo)體行業(yè)多樣本特性（如微量液體、高粘度漿料）。

● 自動(dòng)故障診斷：HP-480型可檢測(cè)電極不對(duì)稱電位、靈敏度異常，并顯示錯(cuò)誤代碼，縮短停機(jī)時(shí)間。

三、典型應(yīng)用案例

1、某12英寸晶圓廠應(yīng)用：
部署HORIBA HP-480 PH計(jì)監(jiān)測(cè)超純水系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)pH控制精度±0.05 pH，使反滲透膜更換周期延長(zhǎng)30%，降低企業(yè)運(yùn)行成本。

2、CMP漿料檢測(cè)：
使用PH-11筆式PH計(jì)測(cè)量0.1mL樣品，3秒內(nèi)完成讀數(shù)，較傳統(tǒng)燒杯法效率提升80%，且測(cè)量重復(fù)性≤0.03 pH。

四、為何選擇HORIBA堀場(chǎng)？

1、微量樣品測(cè)量能力
HORIBA筆式PH計(jì)（如PH11）僅需一滴樣品即可完成測(cè)量，適用于半導(dǎo)體制造中昂貴或稀缺化學(xué)品的檢測(cè)，減少浪費(fèi)并降低成本。

2、防塵防水設(shè)計(jì)
LAQUAtwin系列PH計(jì)達(dá)到IP67防護(hù)等級(jí)，可適應(yīng)半導(dǎo)體潔凈室環(huán)境，避免灰塵或液體侵入導(dǎo)致設(shè)備故障。

3、一站式解決方案

HORIBA不僅提供PH計(jì)，還整合了光譜橢圓儀、拉曼光譜儀等半導(dǎo)體分析儀器，形成從材料表征到工藝監(jiān)控的完整解決方案。例如，其橢圓偏振光譜儀可非破壞性測(cè)量薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)，與PH計(jì)數(shù)據(jù)結(jié)合，優(yōu)化沉積或蝕刻工藝參數(shù)。

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，超純水是芯片生產(chǎn)的"血液"，其純度直接影響晶圓良率與器件性能。而水質(zhì)酸堿度（pH值）作為核心參數(shù)之一，對(duì)化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）、濕法清洗、光刻膠剝離等關(guān)鍵工藝的穩(wěn)定性至關(guān)重要。HORIBA堀場(chǎng)憑借70余年精密測(cè)量技術(shù)積累，為半導(dǎo)體行業(yè)量身打造了全場(chǎng)景pH監(jiān)測(cè)解決方案，以納米級(jí)精度守護(hù)每一滴工藝用水的純凈。