在半導體制造、真空鍍膜、航空航天等多元化的工業領域，真空環境的穩定性與精確性直接決定產品質量與工藝成敗。作為全球真空技術領域的企業，日本大亞真空（DIAVAC）憑借80余年技術積淀，打造出以TRP-11皮拉尼真空計、TRD-10隔膜真空計為代表的精密測量儀器，為全球用戶提供從粗真空到超高真空的全場景解決方案。

一、核心產品分類及技術特點

1、皮拉尼真空計（熱傳導型）

基于氣體熱傳導原理，通過測量加熱絲電阻變化間接計算壓力。

代表型號：TRP-12/SP、TRP-11/SP

技術特點：

● 量程范圍：5.0×10?2～1.0×10? Pa，覆蓋粗真空至中真空。

● 高精度：在1～100 mbar范圍內精度顯著高于普通膜盒式真空計，1～20 mbar時讀數誤差可低至±0.3 mbar。

● 簡單結構：采用9針D型連接器，支持LED數碼顯示，重量僅120-136g，便于集成。

● 適用場景：化工、電子、電池制造等領域的真空設備壓力監測。

2、組合式真空計（多傳感器聯動）

集成皮拉尼傳感器與冷陰極電離規（CCG），實現大氣壓至1.0×10?? Pa的全量程覆蓋。

代表型號：PC-3DA、PT-3DA

技術特點：

● 電源兼容性：支持AC100-240V寬電壓輸入，適應全球不同地區電網。

● 配備6個設定點繼電器，支持記錄儀輸出和RS485/RS422A串行通訊。

● 多顯示模式可同時展示3點測量值，適用于復雜真空系統。

● 適用場景：半導體制造、高真空鍍膜、科研實驗等需要高精度、多參數控制的場景。

3、壓電隔膜式真空計（非加熱型）

基于壓電效應直接測量壓力，無需加熱元件，響應速度更快。

代表型號：TRD-10-P12NC/TRD-10-P13NC

技術特點：

● 量程范圍：TRD-10-P12NC為0-13.3 kPa，TRD-10-P13NC為0-133 kPa。

● 高精度：讀數誤差±0.2%，模擬輸出DC0-10V，數字通訊支持RS-485。

● 防護等級：IP40，兼容SUS316L氣體接觸材料，適用于腐蝕性環境。

● 適用場景：工業過程控制、環境監測、醫療設備等需要快速響應和耐腐蝕的場景。

二、多元化的應用場景

DIAVAC真空計的應用范圍廣泛，涵蓋化工、電子/電池、醫療衛生、生物產業、半導體制造及真空排氣系統研發等多個領域，其核心應用場景與產品特性緊密相關，具體如下：

1、化工與電子/電池領域

● 真空工藝監控：DIAVAC真空計（如PT-3PM、PC-3DA系列）通過皮拉尼原理或復合測量技術（皮拉尼+冷陰極計），可實時監測真空干燥、蒸餾、鍍膜等工藝中的壓力變化，確保工藝穩定性。例如，PT-3PM的測量范圍為1.3×102?1.3×10?1 Pa，適用于電子元件制造中的真空環境控制。

● 研發支持：在化工材料合成或電池電極材料研發中，DIAVAC真空計（如DS-305T高真空排氣系統）可提供精確的壓力數據，輔助優化反應條件。其標準配備的皮拉尼真空計與可選的冷陰極計/電離真空計組合，覆蓋從大氣壓到10?? Pa的寬量程需求。

2、醫療衛生/生物產業領域

● 無菌環境控制：在醫療設備滅菌、藥品真空包裝或食品脫水工藝中，DIAVAC真空計（如DGC-A12顯示器）通過RS-485數字通信實現自動化壓力監測，確保生產過程符合衛生標準。其7段LED顯示與“Pa/133.32"雙單位切換功能，便于操作人員快速讀取數據。

● 細胞培養與發酵控制：在生物反應器中，DIAVAC真空計（如TRD-10隔膜真空計）通過壓電式非加熱測量技術，避免高溫對細胞活性的影響，同時其SUS316L氣體接觸部件可耐受腐蝕性氣體，確保生物安全。

3、導體制造領域

● 高真空工藝支持：DIAVAC真空計（如TRP-11皮拉尼真空計）通過恒壓測量電路與數字溫度補償技術，在半導體刻蝕、沉積等高真空工藝中提供穩定壓力信號。其測量范圍達5.0×10?2?1.0×10? Pa，覆蓋從粗真空到高真空的全流程。

● 系統集成優化：通過RS-485通信接口，DIAVAC真空計可與半導體設備控制系統無縫對接，實現壓力數據實時傳輸與自動化調節。例如，PC-3DA組合式真空計支持多達16個測量元件連接，滿足復雜工藝需求。

4、真空排氣系統研發領域

● 系統性能驗證：DIAVAC真空計（如DS-422T/DS-435T高真空排氣系統）在研發階段用于測試油旋轉泵與渦輪分子泵的協同效率，其極限壓力達10?? Pa，可模擬惡劣真空環境。

● 故障診斷工具：通過記錄儀輸出功能（如PT-3PM的DC 0-10mV輸出），研發人員可分析壓力波動曲線，定位系統泄漏點或泵性能衰減問題，縮短研發周期。

三、選型建議

1. 電子/電池制造

需求：真空干燥、注液等工序需精確控制壓力。

推薦型號：TRP-12/SP（皮拉尼型）

理由：量程覆蓋中真空，精度高，LED顯示便于實時監測。

2. 半導體制造

需求：高真空鍍膜、刻蝕等工藝需全量程壓力控制。

推薦型號：PC-3DA（組合式）

理由：皮拉尼+CCG聯動，支持多參數顯示和串行通訊，適應復雜工藝流程。

3. 化工過程控制

需求：腐蝕性氣體環境下的壓力測量。

推薦型號：TRD-10-P13NC（壓電式）

理由：SUS316L氣體接觸材料和IP40防護等級，確保長期耐腐蝕性能。

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